Alumina Ceramic

KCM Technology

KCM Product 01

¹ÝµµÃ¼ Àåºñ¿ë Ceramic

¹ÝµµÃ¼ ºÎÇ° ¼ÒÀç

¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶°øÁ¤¿ë Àåºñ Áß CVD, ALD, ½ºÆÛÅÍ, Dry Etch µîÀÇ °Ç½Ä Àåºñ´Â °í¿Â, °í¾ÐÀÇ È¯°æ¿¡¼­ °øÁ¤ÀÌ ÁøÇàµÇ¹Ç·Î üÀÓ¹ö ³»ºÎ¸¦ ±¸¼ºÇÏ´Â ºÎÇ°µéÀÌ °ßµô ¼ö ÀÖ´Â ¹°¸®ÀûÀÎ ÇÑ°è°¡ Á¸ÀçÇÕ´Ï´Ù. Åë»óÀûÀ¸·Î üÀÓ¹ö ³»ºÎ¿¡ ¾²ÀÌ´Â ºÎÇ°Àº °í¿Â, ºÎ½Ä, È­ÇÐÀÛ¿ë¿¡ ´ëÇÑ ³»¼ºÀÌ ¸Å¿ì ¶Ù¾î³­ ¼¼¶ó¹Í ¼ÒÀç·Î ¸¸µé¾îÁý´Ï´Ù.

Alumina ¼¼¶ó¹ÍÀº ³»¿­¼º, ³»¸¶¸ð¼º, ³»ÇöóÁ¼º ¹× Àü±â Àý¿¬¼ºÀÌ ¶Ù¾î³ª üÀÓ¹ö Àüü¸¦ º¸È£Çϱâ À§ÇÑ ÇÏ¿ì¡ ¼ÒÀç·Î »ç¿ë µÇ¸ç, ¿þÀÌÆÛ¸¦ ¿î¹ÝÇÏ´Â Arm, »óºÎ Àü±Ø(µðÇ»Àú), ÇϺΠÀü±Ø(¼­¼ÁÅÍ) ¹× üÀÓ¹ö ³»ÀÇ Æ÷Åä ô°ú °°Àº ÇÙ½É ºÎÇ°ÀÇ ±âº» Àç·á·Îµµ »ç¿ëµË´Ï´Ù.

99.99% ÃÊ°í¼øµµ Al2O3¼¼¶ó¹Í

¹ÝµµÃ¼ »ê¾÷ÀÇ Áö¼ÓÀûÀÎ °íµµÈ­·Î ÀÎÇÏ¿© ±ØÇÑÀÇ (°íÃâ·Â/°í¿Â) ȯ°æ¿¡¼­ Àå±âÀûÀ¸·Î »ç¿ë °¡´ÉÇÑ ¹ÝµµÃ¼ ¼³ºñ¡¤ºÎÇ°¿ë ¼¼¶ó¹Í ¼ÒÀç¿¡ ´ëÇÑ ¼ö¿ä°¡ Àü ¼¼°èÀûÀ¸·Î ±ÞÁõÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù.

99.99% ÃÊ°í¼øµµ Al2O3 ¼¼¶ó¹ÍÀº ³»ÇöóÁ¼ºÀÌ °­ÇÏ°í ³»±¸¼ºÀÌ ¸Å¿ì ¶Ù¾î³ª °íÃâ·Â °øÁ¤¿¡ ´ëÀÀ ÀÌ °¡´ÉÇϱ⠶§¹®¿¡ ¹ÝµµÃ¼ ¼³ºñ ºÎÇ°¿ëÀ¸·Î È°¿ëµÇ °í ÀÖÀ¸¸ç, ÀüÀÚ »ê¾÷ÀÇ ±¤¹üÀ§ÇÑ ÀÀ¿ë ºÐ¾ß¿¡ »ç¿ë µË´Ï´Ù. (ESC¿ë ¸ðÀç, Microwave induction parts, Chamber parts, Insulating parts)

99.8% Al2O3¼¼¶ó¹Í

99.8% ÀÌ»óÀÇ °í¼øµµ Al2O3 ¼¼¶ó¹ÍÀº ´Ù¸¥ ±Ý¼Ó ¹× Çöó½ºÆ½°ú °°Àº ¼ÒÀç¿¡ ºñÇØ È­ÇÐÀû ħ½Ä¿¡ ³ôÀº ÀúÇ×¼ºÀ» Áö´Ï°í ÀÖ°í, Ä¡¹ÐÇÏ°í °æµµ°¡ ³ô¾Æ ³»¸¶¸ð Ư¼ºµµ º¸À¯ÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù. ¶ÇÇÑ °í¿Â¿¡¼­ÀÇ Àü±â Àý¿¬¼º°ú 1,600~1,700¡ÆC¿¡¼­µµ °ßµô ¼ö ÀÖ´Â ³»¿­¼ºµµ º¸À¯ÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù. ÀÌ·¯ÇÑ Æ¯¼ºÀ¸·Î ÀÎÇØ °í¿Â Áø°ø ÇöóÁ ȯ°æÀÌ ¿ä±¸µÇ´Â ¿¡ÄªÀåºñ °øÁ¤ µî¿¡ »ç¿ë µÇ´Â ¼Ò¸ð¼ººÎÇ°ÀÇ ÇٽɼÒÀç·Î »ç¿ëµÇ°í ÀÖ½À´Ï´Ù.

DIELECTRIC WINDOW´Â ¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤ Àåºñ Áß Dry EtcherÀÇ ºÎÇ°À¸·Î, À§¿Í °°ÀÌ Etcher Chamber ÀÇ Cover ·Î »ç¿ëµË´Ï´Ù.
DIELECTRIC WINDOW »óºÎ¿¡´Â ºÒ¼Ò°è ºÎ½Ä¼º °¡½º Plasma¸¦ Çü¼º½ÃÅ°±â À§ÇÑ CoilÀÌ ¼³Ä¡µÇ¾î ÀÖ°í, ÇϺδ °í¹ÐµµÀÇ °­·ÂÇÑ ºÒ¼Ò°è Plasma¿¡ ³ëÃâµÇ¾î ÀÌ¿¡ ÀÇÇÑ Ä§½Ä(Erosion)ÀÌ ¹ß»ýÇÕ´Ï´Ù.

Particle¿¡ ÀÇÇÑ °øÁ¤ ºÒ·® °³¼± ¹× DIELECTRIC WINDOW Á¦Ç° º¸È£¸¦ À§ÇØ ³»ÇöóÁ ÄÚÆÃÀ» ÁøÇàÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù.

BASE CATHODE INSULATOR DPS MEC 99.8%
Al2O3 ¼¼¶ó¹Í / DRY ETCHER

ULTIMA HDP CERAMIC DOME / CVD

CERAMIC WAFER LOADER ARM

TOP